PDF
GB/T 14849.4-2008
GB/T 14849.4-2008 Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
简介
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定，测定范围见表1。
通用商品信息
| 委员会 | 全国有色金属标准化技术委员会 |
|---|---|
| 文献类型 | 国家标准 |
| 发布单位 | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会 |
| 标准状态 | 被代替 |
| 标准编号 | GB/T 14849.4-2008 |
| CCS | 半金属及半导体材料分析方法 |
| ICS | 铝和铝合金 |
| 实施日期 | 2008-12-01 |
价格
$ 36
小计
$ 36
税费
$ 0.00
订单总额（含税）
$ 36