T/CIET 1151-2025 现行 团体标准

T/CIET 1151-2025 芯片制造用离子注入设备技术规范

T/CIET 1151-2025 Technical specification for ion implanter used in chip manufacturing

发布日期: 2025-04-09 实施日期: 2025-04-09 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
价格: $ 20.00
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基本信息

标准编号: T/CIET 1151-2025
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: -
国际标准分类名称: 半导体器分立件综合
发布日期: 2025-04-09
实施日期: 2025-04-09
归口单位: 中国国际经济技术合作促进会

适用范围

范围:本文件规定了芯片制造用离子注入设备的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于芯片制造用离子注入设备; 主要技术内容:本文件规定了芯片制造用离子注入设备的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。本文件适用于芯片制造用离子注入设备

研制信息

起草单位:

青岛思锐智能科技股份有限公司、艾恩(山东)半导体科技有限公司、浙江中科尚弘离子装备工程有限公司、通标中研标准化技术研究院(北京)有限公司、途邦认证有限公司

起草人:

聂翔、钟新华、刘仁杰、张丛、李更兰、彭强祥、田龙、谢均宇、陈祥龙、张蕊、姜维世、卓祖亮、刘岩、吴永利、汪贤峰、张仲琳、徐敬铭、包瑾、鲁家辉

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