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T/CIE 132-2022 现行
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法
简介
本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
通用商品信息
| 委员会 | 中国电子学会 |
|---|---|
| 文献类型 | 团体标准 |
| 发布单位 | 中国电子学会 |
| 标准状态 | 现行 |
| 标准编号 | T/CIE 132-2022 |
| CCS | 真空技术与设备 |
| ICS | 真空技术 |
| 实施日期 | 2022-08-10 |
价格
$ 26.00
小计
$ 26.00
税费
$ 0.00
订单总额（含税）
$ 26.00