GB/T 3163-1993
被代替
T/CIE 132-2022
现行
团体标准
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方法
T/CIE 132-2022 Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment
价格:
$ 26.00
基本信息
标准编号:
T/CIE 132-2022
标准类型:
团体标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
真空技术与设备
国际标准分类名称:
真空技术
发布日期:
2022-08-10
实施日期:
2022-08-10
发布单位/组织:
中国电子学会
归口单位:
中国电子学会
页数:
11 页
适用范围
本文件规定了磁控溅射设备薄膜精度的测试方法，测试原理，被测件，测试环境和测试程序等。
本文件适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
研制信息
起草单位:
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司
起草人:
赵巍胜、张博宇、程厚义、SylvainEIMER、彭守仲、许涌、PierreVALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆