YS/T 935-2013 现行 行业标准-有色金属

YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

YS/T 935-2013 Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications

发布日期: 2013-10-17 实施日期: 2014-03-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们

基本信息

标准编号: YS/T 935-2013
标准类型: 行业标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 贵金属及其合金
国际标准分类名称: 其他有色金属产品
发布日期: 2013-10-17
实施日期: 2014-03-01
发布单位/组织: 中华人民共和国工业和信息化部
归口单位: 全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
页数: 5 页

适用范围

本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。
本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材(以下简称靶材)。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。

研制信息

起草单位:

有研亿金新材料股份有限公司

起草人:

张涛、何金江、丁照崇、万小勇、徐建卫、廖赞、尚再艳、王欣平、熊晓东、吕保国

字数: 6 千字 页数: 5 页

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