GB/T 3143-1982
现行
GB/T 40110-2021
现行
国家标准
GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染
GB/T 40110-2021 Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
基本信息
标准编号:
GB/T 40110-2021
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
基础标准与通用方法
国际标准分类名称:
化学分析
发布日期:
2021-05-21
实施日期:
2021-12-01
发布单位/组织:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)
页数:
24 页
适用范围
本文件描述了测量经化学机械抛光或外延生长的硅片上表面元素污染的原子表面密度的TXRF方法。
本文件适用于以下情形：
——原子序数从16（S）到92（U）的元素；
——原子表面密度介于1×1010 atoms/cm2~1×1014 atoms/cm2之间的污染元素；
——采用VPD（气相分解）样品制备方法得到的原子表面密度介于5×108 atoms/cm2~5×1012 atoms/cm2之间的污染元素（见3.4）。
研制信息
起草单位:
中国计量科学研究院、华南理工大学
起草人:
王海、张艾蕊、王梅玲、任丹华、徐昕荣、范燕
引用标准
ISO 14644-1
采用标准
ISO 14706:2014