GB/T 4840.1-1999
被代替
T/CITS 371-2025
现行
团体标准
T/CITS 371-2025 化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷
T/CITS 371-2025 Chemical mechanical polishing (CMP) abrasive material for electronic grade tetramethyl orthosilicate (TMOS)
价格:
$ 20.00
基本信息
标准编号:
T/CITS 371-2025
标准类型:
团体标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
-
国际标准分类名称:
化工产品综合
发布日期:
2025-04-28
实施日期:
2025-04-28
归口单位:
中国检验检测学会
适用范围
范围:本文件规定了化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的设计、生产、检验和使用; 主要技术内容:本文件规定了化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的技术要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输和贮存。本文件适用于化学机械抛光（CMP）研磨料用电子级四甲氧基硅烷的设计、生产、检验和使用
研制信息
起草单位:
山东科翰硅源新材料有限公司、湖北硅元新材料科技有限公司、中国矿业大学（北京）、湖北中誉新材料有限公司、北京工业大学、宁夏胜蓝化工环保科技有限公司、湖北兴振科技有限公司、福州大学、清华大学天津高端装备研究院、河北工业大学、大连理工大学、浙江博来纳润电子材料有限公司、通标中恒标准化技术研究院（北京）有限公司
起草人:
康利彬、袁坤、程洁、冯琼华、梅燕、沈俊、舒佳鹏、王成鑫、戴媛静、张保国、李晓莲、张泽芳、范渊卿、蔡涛、黄啸、陈文娟、周述军、肖俊平、黄煜华、刘岩、吴永利、汪贤峰、贾国蕊、徐敬铭、包瑾