GB/T 2971-1982
废止
GB/T 30653-2014
现行
国家标准
GB/T 30653-2014 Ⅲ族氮化物外延片结晶质量测试方法
GB/T 30653-2014 Test method for crystal quality of Ⅲ-nitride epitaxial layers
基本信息
标准编号:
GB/T 30653-2014
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
金属物理性能试验方法
国际标准分类名称:
金属材料无损检测
发布日期:
2014-12-31
实施日期:
2015-09-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
页数:
7 页
适用范围
本标准规定了利用高分辨X射线衍射仪测试Ⅲ族氮化物外延片结晶质量的方法。
本标准适用于在氧化物衬底（Al2O3、ZnO等）或半导体衬底（GaN、Si、GaAs、SiC等）上外延生长的氮化物(Ga、In、Al)N单层或多层异质外延片结晶质量的测试。其他异质外延片结晶质量的测试也可参考本标准。
研制信息
起草单位:
中国科学院半导体研究所
起草人:
孙宝娟、赵丽霞、王军喜、曾一平、李晋闽