GB/T 4855-1984
废止
GB/T 28275-2012
现行
国家标准
GB/T 28275-2012 硅基MEMS制造技术 氢氧化钾腐蚀工艺规范
GB/T 28275-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—Specification for KOH etch process
基本信息
标准编号:
GB/T 28275-2012
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
微电路
国际标准分类名称:
集成电路、微电子学
发布日期:
2012-05-11
实施日期:
2012-12-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
页数:
10 页
适用范围
本标准规定了采用氢氧化钾腐蚀工艺进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求。
本标准适用于氢氧化钾腐蚀工艺和管理。
研制信息
起草单位:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所、重庆大学、东南大学、中国电子科技集团第四十九研究所、中机生产力促进中心
起草人:
夏伟锋、熊斌、冯飞、戈肖鸿、周再发、李玉玲、贺学锋、田雷、刘伟