T/CIET 1296-2025 现行 团体标准

T/CIET 1296-2025 集成电路用高纯钽靶材

T/CIET 1296-2025 High-purity tantalum target for integrated circuits

发布日期: 2025-05-14 实施日期: 2025-05-14 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
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基本信息

标准编号: T/CIET 1296-2025
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: -
国际标准分类名称: 其他有色金属产品
发布日期: 2025-05-14
实施日期: 2025-05-14
归口单位: 中国国际经济技术合作促进会

适用范围

范围:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。 本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积(PVD)工艺用的高纯钽靶材; 主要技术内容:本文件规定了集成电路用高纯钽靶材的技术要求、试验方法、检验规则以及标志、包装、运输、贮存。本文件适用于集成电路制造过程中物理气相沉积(PVD)工艺用的高纯钽靶材

研制信息

起草单位:

通标中研标准化技术研究院(北京)有限公司、宝鸡市亨信稀有金属有限公司、稀美资源(贵州)科技有限公司、炎陵县今成钽铌有限公司、途邦认证有限公司

起草人:

刘岩、吴永利、汪贤峰、李泽峰、李玉儒、陈虎兵、蔡海成、徐敬铭、包瑾、刘世纪

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