GB/T 3143-1982
现行
GB/T 20176-2006
现行
国家标准
GB/T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 20176-2006 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
基本信息
标准编号:
GB/T 20176-2006
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
电子光学与其他物理光学仪器
国际标准分类名称:
化学分析
发布日期:
2006-03-27
实施日期:
2006-11-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微束标准化技术委员会
页数:
19 页
适用范围
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10 16 atoms/cm 3~1×10 20 atoms/cm3。
研制信息
起草单位:
清华大学电子工程系
起草人:
查良镇、陈旭、黄雁华、王光普、黄天斌、刘林、葛欣、桂东
引用标准
ISO 5725-2:1994
采用标准
ISO 14237:2000