T/CEPEA 0102-2023 现行 团体标准

T/CEPEA 0102-2023 化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘

T/CEPEA 0102-2023 Electrostatic chuck for etching process of compound semiconductor devices

发布日期: 2024-03-01 实施日期: 2024-03-15 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
价格: $ 31.00
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基本信息

标准编号: T/CEPEA 0102-2023
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: -
国际标准分类名称: 机电元件综合
发布日期: 2024-03-01
实施日期: 2024-03-15
发布单位/组织: 中国电子专用设备工业协会
归口单位: 中国电子专用设备工业协会

适用范围

本文件界定了化合物半导体器件刻蚀工艺静电卡盘(以下简称静电卡盘)的术语和定义,规定了其结构和分类、工作条件、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本文件适用于刻蚀碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等化合物半导体材料以及二氧化硅(SiO2)、蓝宝石、玻璃等电子迁移率较低材料所用的静电卡盘。

研制信息

起草单位:

无锡邑文微电子科技股份有限公司、广东海拓创新技术有限公司、浏阳泰科天润半导体科技有限公司

起草人:

孙文彬、高阔、刘斌、施广彦

字数: 21 千字

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