GB/T 4855-1984
废止
GB/T 28274-2012
现行
国家标准
GB/T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则
GB/T 28274-2012 Silicon-based MEMS fabrication technology—The basic regulation of layout design
基本信息
标准编号:
GB/T 28274-2012
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
微电路
国际标准分类名称:
集成电路、微电子学
发布日期:
2012-05-11
实施日期:
2012-12-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
页数:
11 页
适用范围
本标准规定了微结构加工时，光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。
本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积（PVD）、离子注入、反应离子刻蚀（RIE）、氢氧化钾（KOH）腐蚀、硅玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
研制信息
起草单位:
北京大学、中机生产力促进中心、中国电子科技集团第十三研究所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、西北工业大学
起草人:
张大成、王玮、刘伟、杨芳、姜森林、崔波、熊斌、乔大勇