XB/T 512-2020 镝、铽金属靶材
本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材,主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。
当前分类: CN-XB - 稀土
本标准适用于真空冶炼法制得的镝、铽金属靶材,主要用于制备钕铁硼磁控溅射镀膜等。
本标准适用于以碳化硼(或纯硼)还原氧化镧等方法制得的六硼化镧粉末、经热压及电弧法制得的六硼化镧,主要用于阴极发射材料,应用于电子显微镜、电子束焊接、放电管等领域。
标准适用于以真空还原-蒸馏法、真空蒸馏或升华法制得的高纯金属镱,主要用于生产稀土栅介质材料、显示材料、超导材料、压电材料、防护材料、爆破材料等。
本标准适用于铥镱镥氧化物富集物、铥镱镥碳酸盐富集物、铥镱镥液体富集物中十五个稀土元素氧化物配分量的测定。
本部分适用于钕铁硼废料中十五个稀土元素氧化物配分量的测定。
本部分适用于钕铁硼废料中稀土氧化物总量的测定。共包含两个方法:方法1为重量法,方法2为电感耦合等离子体原子发射光谱法。方法1测定范围(质量分数):5.00%~70.00%,方法2测定范围(质量分数):0.50%~5.00%。
本标准适用于真空还原蒸馏法制得的金属镱,主要用于热屏蔽涂层材料、磁致伸缩和测定压力的镱元件等。
本标准适用于以真空蒸馏法制得的高纯金属铽,主要用于生产高纯金属铽靶材、高性能铽镝铁超磁致伸缩合金、光磁记录材料等。
本标准适用于以真空蒸馏法制得的高纯金属镝,主要用于生产高纯金属镝靶材、高性能铽镝铁超磁致伸缩合金、蓄冷材料等。
本标准适用于经选矿得到的氟碳铈镧矿精矿,用于提取稀土化合物及冶炼稀土合金。
本标准适用于化学法制得的的氟化钇,主要用作制备金属钇及其合金、晶体激光材料、上转换发光材料、特种玻璃、光导纤维、灯用电极及喷涂材料等。
本标准适用于萃取法分离制取的铥镱镥氧化物富集物、铥镱镥碳酸盐富集物、铥镱镥液体富集物。该产品主要用作提取铥、镱、镥等单一稀土的原料,供深加工使用。