GB/T 17866-1999 现行 国家标准

GB/T 17866-1999 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则

GB/T 17866-1999 Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems

发布日期: 1999-09-13 实施日期: 2000-06-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们

基本信息

标准编号: GB/T 17866-1999
标准类型: 国家级标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 半导体集成电路
国际标准分类名称: 集成电路、微电子学
发布日期: 1999-09-13
实施日期: 2000-06-01
发布单位/组织: 国家质量技术监督局
归口单位: 由SEMI中国标准化技术委员会
页数: 16 页

研制信息

起草单位:

中国科学院微电子中心

起草人:

陈宝钦、陈森锦、廖温初、刘明

字数: 21 千字 页数: 16 页

引用标准

采用标准

SEMI P23:1993

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