GB/T 34649-2017 现行国家标准

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

GB/T 34649-2017 Magnetron sputtering ruthenium target

发布日期: 2017-09-29 实施日期: 2018-04-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务，请联系我们

标准编号: GB/T 34649-2017

标准类型: 国家级标准

标准状态: 现行

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中国标准分类名称: 贵金属及其合金

国际标准分类名称: 其他有色金属产品

发布日期: 2017-09-29

实施日期: 2018-04-01

发布单位/组织: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

归口单位: 全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)

页数: 8 页

本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶（以下简称钌靶）。

有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院

罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩

字数: 14 千字 页数: 8 页