GB/T 18033-2000
被代替
YS/T 819-2012
现行
行业标准-有色金属
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 819-2012 High-purity sputtering copper target used in electronic film
基本信息
标准编号:
YS/T 819-2012
标准类型:
行业标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
重金属及其合金
国际标准分类名称:
铜产品
发布日期:
2012-11-07
实施日期:
2013-03-01
发布单位/组织:
中华人民共和国工业和信息化部
归口单位:
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC 243)
页数:
8 页
适用范围
本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同（或订货单）内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材（以下简称高纯铜靶）。
研制信息
起草单位:
宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司
起草人:
王学泽、宋佳、高岩、尚再燕、赵永善、袁洁、熊晓东