GB/T 3143-1982
现行
GB/T 32495-2016
现行
国家标准
GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
GB/T 32495-2016 Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of arsenic in silicon
基本信息
标准编号:
GB/T 32495-2016
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
基础标准与通用方法
国际标准分类名称:
化学分析
发布日期:
2016-02-24
实施日期:
2017-01-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微束标准化技术委员会(SAC/TC 38)
页数:
14 页
适用范围
本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法，以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1×1016 atoms/cm3～2.5×1021 atoms/cm3的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品，坑深在50 nm及以上。
研制信息
起草单位:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
起草人:
马农农、陈潇、何友琴、王东雪
引用标准
采用标准
ISO 12406:2010