GB/T 2413-1981
现行
GB/T 29844-2013
现行
国家标准
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
GB/T 29844-2013 Specifications for metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
基本信息
标准编号:
GB/T 29844-2013
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
电子设备与专用材料、零件、结构件
国际标准分类名称:
电子技术专用材料
发布日期:
2013-11-12
实施日期:
2014-04-15
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
页数:
10 页
适用范围
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸，以及推荐的布局和设计规则，这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。
本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量，适用于g线、i线、KrF、ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
研制信息
起草单位:
上海华虹NEC电子有限公司
起草人:
王雷、伍强、朱骏、陈宝钦
引用标准
GB/T 16878-1997 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范
SJ/T 10584-1994
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