GB/T 46717-2025 现行 国家标准

GB/T 46717-2025 半导体器件 金属化空洞应力试验

GB/T 46717-2025 Semiconductor devices—Metallization stress void test

发布日期: 2025-10-31 实施日期: 2026-05-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
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基本信息

标准编号: GB/T 46717-2025
标准类型: 国家级标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 半导体分立器件
国际标准分类名称: 半导体器分立件综合
发布日期: 2025-10-31
实施日期: 2026-05-01
发布单位/组织: 国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位: 全国半导体器件标准化技术委员会(SAC/TC 78)
页数: 20 页

适用范围

本文件描述了铝(Al)或铜(Cu)金属化空洞应力试验方法及相关判据。
本文件适用于半导体工艺的可靠性研究和鉴定。

研制信息

起草单位:

中国电子科技集团公司第十三研究所、河北北芯半导体科技有限公司、广州天极电子科技股份有限公司、中国核电工程有限公司河北分公司、广东科信电子有限公司、河北新华北集成电路有限公司、工业和信息化部电子第五研究所、中山奥士森电子有限公司、深圳市微特精密科技股份有限公司、河北赛美科技有限公司

起草人:

裴选、席善斌、杨俊锋、侯继儒、卫云、高东阳、尹丽晶、吴亚光、赵昱、柯佳键、任怀龙、肖庆中、龙秀才、程志勇、曲韩宾、高博、李潇龙、曲佳健、赵妍婷

字数: 23 千字 页数: 20 页

采用标准

IEC 62418:2010

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