T/CNIA 0141-2022 现行 团体标准

T/CNIA 0141-2022 多晶硅生产用氢气中金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

T/CNIA 0141-2022 Determination of Metal Impurity Content in Hydrogen Used for Polysilicon Production Using Inductively Coupled Plasma Mass Spectroscopy (ICP-MS)

发布日期: 2022-02-28 实施日期: 2022-08-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
价格: $ 20.00
无货

基本信息

标准编号: T/CNIA 0141-2022
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: -
国际标准分类名称: 金属材料试验综合
发布日期: 2022-02-28
实施日期: 2022-08-01
归口单位: 中国有色金属工业协会

适用范围

主要技术内容:本文件规定了用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)测定多晶硅生产用氢气中钠、镁、铝、钙、铬、锰、铁、镍、铜、锌、砷、钛元素含量的方法

研制信息

起草单位:

内蒙古通威高纯晶硅有限公司、四川永祥股份有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、亚洲硅业(青海)股份有限公司、新特能源股份有限公司、江苏中能硅业科技发展有限公司、青海芯测科技有限公司、江苏鑫华半导体材料科技有限公司

起草人:

袁中华、张习松、黄仕建、慕道焱、侯海波、李寿琴、楚东旭、刘翠、魏东亮、邱艳梅、王彬、岳峥、赵培芝

相关标准

联系我们