T/CNIA 0011-2019 现行 团体标准

T/CNIA 0011-2019 气相沉积法碳化硅涂层

T/CNIA 0011-2019 Silicon carbide coating by gas phase deposition method

发布日期: 2019-02-13 实施日期: 2019-06-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
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基本信息

标准编号: T/CNIA 0011-2019
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 基础标准
国际标准分类名称: 半导体材料
发布日期: 2019-02-13
实施日期: 2019-06-01
归口单位: 中国有色金属工业协会

适用范围

主要技术内容:本标准规定了气相沉积法碳化硅涂层(以下简称碳化硅涂层)的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于以甲基三氯硅烷和氢气为主要原料,通过气相沉积法制备的碳化硅涂层。产品主要用于光伏领域石墨材料表面

研制信息

起草单位:

江苏中能硅业科技发展有限公司、江苏协鑫特种材料科技有限公司

起草人:

于伟华、王彬、田新、张春伟

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