GB/T 14140.1-1993
被代替
T/CNIA 0017-2019
现行
团体标准
T/CNIA 0017-2019 多晶硅用氯硅烷中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
T/CNIA 0017-2019 Determination of Impurity Content in Polysilicon Using Chlorosilane by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS)
价格:
$ 20.00
基本信息
标准编号:
T/CNIA 0017-2019
标准类型:
团体标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
半金属及半导体材料分析方法
国际标准分类名称:
金属材料试验综合
发布日期:
2019-02-13
实施日期:
2019-06-01
归口单位:
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了多晶硅用氯硅烷中杂质（硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠）含量的电感耦合等离子体质谱测定方法。本标准适用于多晶硅用氯硅烷中杂质（硼、磷、铁、钙、铝、铬、镍、铜、锌、钛、钾、钠）含量的测定，测定范围为0 μg/L ～1000 μg/L
研制信息
起草单位:
新特能源股份有限公司、新疆大全新能源股份有限公司、新疆东方希望新能源有限公司、内蒙古神舟硅业有限责任公司、宜昌南玻硅材料有限公司
起草人:
银波、邱艳梅、刘国霞、罗建文、谭忠芳、于生海、宗金平、宗凤云、孟凡江、张云晖