GB/T 32278-2015 被代替 国家标准

GB/T 32278-2015 碳化硅单晶片平整度测试方法

GB/T 32278-2015 Test method for flatness of monocrystalline silicon carbide wafers

发布日期: 2015-12-10 实施日期: 2017-01-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们

基本信息

标准编号: GB/T 32278-2015
标准类型: 国家级标准
标准状态: 被代替
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 金属物理性能试验方法
国际标准分类名称: 金属材料试验
发布日期: 2015-12-10
实施日期: 2017-01-01
发布单位/组织: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC 203/SC 2)
页数: 8 页

适用范围

本标准规定了碳化硅单晶抛光片的平整度,即总厚度变化(TTV)、局部厚度变化(LTV)、弯曲度(Bow)、翘曲度(Warp)的测试方法。本标准适用于直径为50.8 mm、76.2 mm、100 mm,厚度0.13 mm~1 mm碳化硅单晶抛光片平整度的测试。

研制信息

起草单位:

北京天科合达蓝光半导体有限公司、中国科学院物理研究所

起草人:

陈小龙、郑红军、张玮、郭钰

字数: 9 千字 页数: 8 页

被以下标准替代

引用标准

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