GB/T 14140.1-1993
被代替
T/CNIA 0061-2020
现行
团体标准
T/CNIA 0061-2020 硅外延用四氯化硅中杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
T/CNIA 0061-2020 Determination of impurity content in silicon epitaxy using inductively coupled plasma mass spectrometry
价格:
$ 20.00
基本信息
标准编号:
T/CNIA 0061-2020
标准类型:
团体标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
电子设备与专用材料、零件、结构件
国际标准分类名称:
金属材料试验综合
发布日期:
2020-05-27
实施日期:
2020-08-01
归口单位:
中国有色金属工业协会
适用范围
主要技术内容:本标准规定了用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）测定硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的方法。本标准适用于硅外延用四氯化硅中硼、钠、镁、铝、钾、钙、磷、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、砷、铅元素含量的测定。各元素测定下限为0.01 ng/g
研制信息
起草单位:
洛阳中硅高科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、新特能源股份有限公司、新疆协鑫新能源材料科技有限公司
起草人:
严大洲、万烨、赵雄、楚东旭、刘凤华、蔡延国、邱艳梅、赵娟龙