T/ICMTIA 5.3-2020 现行 团体标准

T/ICMTIA 5.3-2020 集成电路用ArF光刻胶光刻检测方法

T/ICMTIA 5.3-2020 The method of inspecting ArF photoresist used in integrated circuits using optical lithography

发布日期: 2020-12-31 实施日期: 2021-03-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们
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基本信息

标准编号: T/ICMTIA 5.3-2020
标准类型: 团体标准
标准状态: 现行
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 高纯试剂、高纯物质
国际标准分类名称: 半导体材料
发布日期: 2020-12-31
实施日期: 2021-03-01
发布单位/组织: 中关村集成电路材料产业技术创新联盟

研制信息

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