GB/T 24582-2009 被代替 国家标准

GB/T 24582-2009 酸浸取-电感耦合等离子质谱仪测定 多晶硅表面金属杂质

GB/T 24582-2009 Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry

发布日期: 2009-10-30 实施日期: 2010-06-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务,请 联系我们

基本信息

标准编号: GB/T 24582-2009
标准类型: 国家级标准
标准状态: 被代替
is_force_gb: no
中国标准分类名称: 半金属与半导体材料
国际标准分类名称: 半导体材料
发布日期: 2009-10-30
实施日期: 2010-06-01
发布单位/组织: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)
页数: 6 页

适用范围

1.1本标准规定了用酸从多晶硅块表面浸取金属杂质,并用电感耦合等离子质谱仪定量检测多晶硅表面上的金属杂质痕量分析方法。
1.2本标准适用于碱金属、碱土金属和第一系列过渡元素如钠、钾、钙、铁、镍、铜、锌以及其他元素如铝的检测。
1.3本标准适用于各种棒、块、粒、片状多晶表面金属污染物的检测。由于块、片或粒形状不规则,面积很难准确测定,故根据样品重量计算结果,使用的样品重量为50 g~300 g,检测限为0.01 ng/mL。
1.4酸的浓度、组成、温度和浸取时间决定着表面腐蚀深度和表面污染物的浸取效率。在这个实验方法中腐蚀掉的样品重量小于样品重量的1%。
1.5本标准适用于重量为25 g~5 000 g的样品的测定,为了达到仲裁的目的,该实验方法规定样品的重量为约300 g。

研制信息

起草单位:

新光硅业科技责任有限公司

起草人:

王波、过惠芬、吴道荣、梁洪、敖细平

字数: 9 千字 页数: 6 页

被以下标准替代

引用标准

ISO 14644-1 SEMI C28 SEMI C30 SEMI C35 ASTM D5127

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