GB/T 3656-1983
被代替
GB/T 39145-2020
现行
国家标准
GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
GB/T 39145-2020 Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
基本信息
标准编号:
GB/T 39145-2020
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
半金属及半导体材料分析方法
国际标准分类名称:
金属材料试验
发布日期:
2020-10-11
实施日期:
2021-09-01
发布单位/组织:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
页数:
8 页
适用范围
本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。
本标准适用于硅单晶抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝、钾、钙、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌元素含量的测定，测定范围为108 cm-2～1013 cm-2。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形硅片表面痕量金属元素含量的测定。
注:硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
研制信息
起草单位:
南京国盛电子有限公司、有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金属技术经济研究院、无锡华瑛微电子技术有限公司、龙腾半导体有限公司、厦门科鑫电子有限公司
起草人:
骆红、潘文宾、赵而敬、孙燕、张海英、徐新华、温子瑛、胡金枝、李素青、马林宝、李俊需
引用标准
GB/T 25915.1-2010 洁净室及相关受控环境 第1部分：空气洁净度等级
SEMI F63
GB/T 6624-1995 硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T 6624-2009 硅抛光片表面质量目测检验方法
GB/T 14264-1993 半导体材料术语
GB/T 14264-2009 半导体材料术语
GB/T 14264-2024 半导体材料术语
GB/T 17433-1998 冶金产品化学分析基础术语
GB/T 17433-2014 冶金产品化学分析基础术语
GB/T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法
GB/T 19921-2018 硅抛光片表面颗粒测试方法
GB/T 37837-2019 四极杆电感耦合等离子体质谱方法通则
JJF 1159-2006 四极杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范