GB/T 4855-1984
废止
GB/T 34900-2017
现行
国家标准
GB/T 34900-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
GB/T 34900-2017 Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
基本信息
标准编号:
GB/T 34900-2017
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
微电路
国际标准分类名称:
集成电路、微电子学
发布日期:
2017-11-01
实施日期:
2018-05-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
页数:
12 页
适用范围
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
研制信息
起草单位:
天津大学、中机生产力促进中心、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心、南京理工大学、中国电子科技集团公司第十三研究所
起草人:
郭彤、胡晓东、李海斌、于振毅、裘安萍、程红兵、崔波、朱悦