GB/T 11093-1989
被代替
GB/T 14847-1993
被代替
国家标准
GB/T 14847-1993 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
GB/T 14847-1993 Test method for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance
基本信息
标准编号:
GB/T 14847-1993
标准类型:
国家级标准
标准状态:
被代替
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
金属物理性能试验方法
国际标准分类名称:
半导体材料
发布日期:
1993-12-24
实施日期:
1994-09-01
发布单位/组织:
国家技术监督局
页数:
7 页
研制信息
起草单位:
机电部四十六所和上海第二冶炼厂
起草人:
何秀坤、李光平、叶裕宗、严世权、王琴、张志刚、钱国胜
被以下标准替代
引用标准
GB/T 6379-1986 测试方法的精密度 通过实验室间试验确定标准测试方法的重复性和再现性
GB/T 6379.1-2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第1部分:总则与定义
GB/T 6379.2-2004 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第2部分:确定标准测量方法重复性与再现性的基本方法
GB/T 6379.3-2012 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第3部分:标准测量方法精密度的中间度量
GB/T 6379.4-2006 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第4部分:确定标准测量方法正确度的基本方法
GB/T 6379.5-2006 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第5部分:确定标准测量方法精密度的可替代方法
GB/T 6379.6-2009 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第6部分:准确度值的实际应用
GB/T 6379.4-2025 测量方法与结果的准确度(正确度与精密度) 第4部分:确定标准测量方法正确度的基本方法
采用标准
ASTM F95-89