GB/T 11093-1989
被代替
T/CSTM 01199-2024
现行
团体标准
T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
T/CSTM 01199-2024 Multi-layer metal thin film layer structure measurement and analysis method X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
价格:
$ 20.00
基本信息
标准编号:
T/CSTM 01199-2024
标准类型:
团体标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
半金属与半导体材料
国际标准分类名称:
半导体材料
发布日期:
2024-01-05
实施日期:
2024-04-05
归口单位:
中关村材料试验技术联盟
适用范围
范围:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。 本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征; 主要技术内容:本文件规定了X射线光电子能谱仪（XPS）深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征
研制信息
起草单位:
季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院（广州）有限公司
起草人:
范燕、卓尚军、严楷、王双、李林清、王海、杨秋、江柯敏、刘海全、谭晓逸、谭军、白敬胜