GB/T 11093-1989
被代替
GB/T 24578-2009
被代替
国家标准
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 24578-2009 Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-ray fluorescence spectroscopy
基本信息
标准编号:
GB/T 24578-2009
标准类型:
国家级标准
标准状态:
被代替
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
半金属与半导体材料
国际标准分类名称:
半导体材料
发布日期:
2009-10-30
实施日期:
2010-06-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
页数:
11 页
适用范围
1.1本标准规定了硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法，本方法使用单色X光源全反射X光荧光光谱的方法定量测定硅单晶抛光衬底表面层的元素面密度。1.2本标准适用于N型和P型硅单晶抛光片、外延片等镜面抛光的硅片，尤其适用于清洗后硅片自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素的面密度测定。
研制信息
起草单位:
有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子有限公司
起草人:
孙燕、李俊峰、楼春兰、卢立延、张静、翟富义