GB/T 11093-1989
被代替
GB/T 1554-2009
现行
国家标准
GB/T 1554-2009 硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
GB/T 1554-2009 Testing method for crystallographic perfection of silicon by preferential etch techniques
基本信息
标准编号:
GB/T 1554-2009
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
半金属与半导体材料
国际标准分类名称:
半导体材料
发布日期:
2009-10-30
实施日期:
2010-06-01
发布单位/组织:
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
页数:
20 页
适用范围
本标准规定了用择优腐蚀技术检验硅晶体完整性的方法。
本标准适用于晶向为111、100或110、电阻率为10-3 Ω·cm～104 Ω·cm、位错密度在0 cm-2～105 cm-2之间的硅单晶锭或硅片中原生缺陷的检验。
本方法也适用于硅单晶片。
研制信息
起草单位:
峨嵋半导体材料厂
起草人:
何兰英、王炎、张辉坚、刘阳