GB/T 13388-2009 现行国家标准

GB/T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法

GB/T 13388-2009 Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques

发布日期: 2009-10-30 实施日期: 2010-06-01 中国正版标准查询、采购、翻译等其他相关服务，请联系我们

标准编号: GB/T 13388-2009

标准类型: 国家级标准

标准状态: 现行

is_force_gb: no

中国标准分类名称: 半金属与半导体材料

国际标准分类名称: 半导体材料

发布日期: 2009-10-30

实施日期: 2010-06-01

发布单位/组织: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会

归口单位: 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会

页数: 10 页

2.1本标准规定了α角的测量方法，α角为垂直于圆型硅片基准参考平面的晶向与硅片表面参考面间角。2.2本标准适用于硅片的参考面长度范围应符合GB/T 12964和GB/T 12965中的规定，且硅片角度偏离应在-5°到+5°范围之内。

有研半导体材料股份有限公司

孙燕、卢立延、杜娟、翟富义、高玉锈

字数: 17 千字 页数: 10 页

SEMI MF847-0705