GB/T 11093-1989
被代替
GB/T 41652-2022
现行
国家标准
GB/T 41652-2022 刻蚀机用硅电极及硅环
GB/T 41652-2022 Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
基本信息
标准编号:
GB/T 41652-2022
标准类型:
国家级标准
标准状态:
现行
is_force_gb:
no
中国标准分类名称:
元素半导体材料
国际标准分类名称:
半导体材料
发布日期:
2022-07-11
实施日期:
2023-02-01
发布单位/组织:
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
归口单位:
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)
页数:
8 页
适用范围
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200 mm～450 mm的硅电极及硅环。
研制信息
起草单位:
有研半导体硅材料股份公司、山东有研半导体材料有限公司、新美光(苏州)半导体科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司
起草人:
库黎明、孙燕、闫志瑞、张果虎、夏秋良、潘金平
引用标准
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